Chlumská Jana

RIV - aktuální sběr

RIV ID 6389090

Označit vše / Zobrazit vše / Zrušit označení

Nalezeno záznamů: 4

Článek v odborném periodiku

0588163 - ÚPT 2025 RIV JO eng J - Článek v odborném periodiku
Pokorná, Zuzana - Knápek, Alexandr - Mika, Filip - Chlumská, Jana - Konvalina, Ivo - Walker, C. G. H. - Jaber, A. M. D.
Determination of Crystallographic Information by Means of Very Low Energy Electron Imaging.
Jordan Journal of Physics. Roč. 17, č. 2 (2024), s. 233-244. ISSN 1994-7607. E-ISSN 1994-7615
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: SLEEM * LEEM * Very low energy electrons * Crystallographic orientation
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Impakt faktor: 0.6, rok: 2024 ; AIS: 0.072, rok: 2024
Způsob publikování: Omezený přístup
https://jjp.yu.edu.jo/index.php/jjp/article/view/336
Knápek, Alexandr
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0355166

Prototyp, funkční vzorek

0602560 - ÚPT 2025 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Krátký, Stanislav - Chlumská, Jana - Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Zavřel, J. - Lobaz, P. - Škereň, M. - Doleček, Roman - Václavík, Jan - Mokrý, Pavel
Pole mikro-čoček.
[Micro lens array.]
Interní kód: APL–2024-10 ; 2024
Technické parametry: Plastová fólie nesoucí vrstvu UV tvrditelného polymeru obsahující pole mikro-čoček, které omezují vyzařování světla LED zdrojů do vysokých úhlů. Pole mikro-čoček bylo připraveno pomocí elektronové litografie a následně se struktura přenesla do UV tvrditelného polymeru pomocí nanoimprint litografie.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, Ph.D., kratky@isibrno.cz.
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) TN02000020
Institucionální podpora: RVO:68081731 ; RVO:61389021
Klíčová slova: e-beam lithography * reactive ion etching * two-photon lithography * diamond ruling * nanoimprint lithography * LED lights * UGR
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0359783

Výzkumná zpráva

0601730 - ÚPT 2025 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Košelová, Zuzana - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Knápek, Alexandr
SMV-2024-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2024-03: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN GROUP, a.s., 2024. 4 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0359045
Do RIV jako smluvní výzkum

0602558 - ÚPT 2025 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Horáček, Miroslav - Kolařík, Vladimír - Krátký, Stanislav - Brunn, Ondřej - Chlumská, Jana - Meluzín, Petr - Košelová, Zuzana - Král, Stanislav
SMV-2024-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky.
[SMV-2024-01: Relief structures based on diffractive optics.]
Brno: IQS nano s.r.o., 2024. 38 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: diffractive optical structures * relief structure * e-beam lithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0359779
Do RIV jako smluvní výzkum