Matějka Milan

RIV - aktuální sběr

RIV ID 5422043

Označit vše / Zobrazit vše / Zrušit označení

Nalezeno záznamů: 5

Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)

0598525 - ÚPT 2025 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Burda, Daniel - Kandra, M. - Allaham, Mohammad M. - Knápek, Alexandr - Matějka, Milan
Conductively Coated 3D Printed Emitters for Electron Devices.
2024 37th International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2024. New York: IEEE, 2024, s. 38-39. ISBN 979-8-3503-7977-8. ISSN 2164-2370.
[International Vacuum Nanoelectronics Conference (IVNC) /37./. Brno (CZ), 15.07.2024-19.07.2024]
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: cold field emission * two-photon lithography * 2PL * FEM * electron device
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
https://ieeexplore.ieee.org/document/10652319

Burda, Daniel Matějka, Milan
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0356278

Prototyp, funkční vzorek

0598776 - ÚPT 2025 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Matějka, Milan - Brunn, Ondřej - Knápek, Alexandr
Kalibrační standard s přesnou 3D morfologickou strukturou.
[Calibration standard with precise 3D morphological structure.]
Interní kód: APL-2024-05 ; 2024
Technické parametry: Křemíkový čip rozměru 10 mm x 10 mm obsahující motiv kalibračních vzorů obsahující tvarově přesné morfologické struktury zaznamenané v povrchu i na povrchu monokrystalického křemíkového nosiče, metodami mokrého leptání, reaktivního iontového leptání a technikou lift-off.
Ekonomické parametry: Funkční vzorek vyvinutý během řešení projektu s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Milan Matějka, mmatejka@isibrno.cz
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW03010504
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: calibration sample for microscopy * electron microscopy * scanning probe microscopy * electron beam lithography
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0356366

Ostatní výsledky

0618987 - ÚPT 2025 RIV CZ cze O - Ostatní výsledky
Matějka, Milan - Brunn, Ondřej
Aplikační dokument pro Kalibrační standard s mikro reliéfní kalibrační strukturou zaznamenané v tenké vrstvě.
[Application document for Calibration standard with micro relief calibration structure prepared in a thin layer.]
2024
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW03010504
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: calibration chip * microstructure * magnetic chip
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0365782

0618988 - ÚPT 2025 RIV CZ cze O - Ostatní výsledky
Matějka, Milan - Brunn, Ondřej
Aplikační dokument pro Kalibrační standard s přesnou 3D morfologickou strukturou.
[Application document for Calibration Standard with precise 3D morphological structure.]
2024
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW03010504
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: morphological accuracy * crystallographic etching
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0365781

Výzkumná zpráva

0601730 - ÚPT 2025 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Horáček, Miroslav - Matějka, Milan - Krátký, Stanislav - Meluzín, Petr - Košelová, Zuzana - Chlumská, Jana - Kolařík, Vladimír - Knápek, Alexandr
SMV-2024-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM.
[SMV-2024-03: Development of test specimens for SEM.]
Brno: TESCAN GROUP, a.s., 2024. 4 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: relief structure * e-beam lithography * silicon etching * microlithography
Obor OECD: Nano-processes (applications on nano-scale)
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0359045
Do RIV jako smluvní výzkum