0604707 - ÚPT 2026 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Jílek, Zvonimír - Radlička, Tomáš - Krzyžánek, Vladislav
Simulation Study of Low-Dose 4D-STEM Phase Contrast Techniques at the Nanoscale in SEM.
Nanomaterials. Roč. 15, č. 1 (2025), č. článku 70. ISSN 2079-4991. E-ISSN 2079-4991
Grant CEP: GA ČR(CZ) GA21-13541S
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron microscopy * phase contrast * STEM * SEM * 4D-STEM * ptychography * ePIE * iCOM * low dose * carbon nanotubes
Obor OECD: Electrical and electronic engineering
Impakt faktor: 4.3, rok: 2024 ; AIS: 0.674, rok: 2024
Způsob publikování: Open access
https://www.mdpi.com/2079-4991/15/1/70
Radlička, Tomáš
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0372832