Krýsová Hana

0619389 - FZÚ 2026 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Kavan, L. - Krýsová, Hana - Zukalová, M. - Tarábková, H. - Hubička, Zdeněk
Peculiar photoelectrochemical activity of zinc oxide and tin dioxide.
Journal of Photochemistry and Photobiology A-Chemistry. Roč. 458, Jan (2025), č. článku 115929. ISSN 1010-6030. E-ISSN 1873-2666
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: Zinc Oxide * Tin Oxide * thin films * single crystal * Photo/electrochemical properties
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4.7, rok: 2024 ; AIS: 0.518, rok: 2024
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0366191

0599213 - FZÚ 2025 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Krýsová, Hana - Cichoň, Stanislav - Kapran, Anna - Volfová, Lenka - Chvostová, Dagmar - Imrich, T. - Neumann-Spallart, M. - Krýsa, J. - Hubička, Zdeněk
Deposition of Fe₂O₃:Sn semiconducting thin films by reactive pulsed HiPIMS + ECWR co-sputtering from Fe and Sn targets.
Journal of Photochemistry and Photobiology A-Chemistry. Roč. 454, Sep (2024), č. článku 115676. ISSN 1010-6030. E-ISSN 1873-2666
Grant CEP: GA MŠMT LM2023051
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * ECWR * co-sputtering * hematite * Sn doping * photocurrent
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 4.7, rok: 2024 ; AIS: 0.518, rok: 2024
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.jphotochem.2024.115676
Hubička, Zdeněk
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0356838

0586227 - FZÚ 2025 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Krýsová, Hana - Mansfeldová, V. - Tarabková, H. - Písaříková, Aneta - Hubička, Zdeněk - Kavan, L.
High-quality dense ZnO thin films: work function and photo/electrochemical properties.
Journal of Solid State Electrochemistry. Roč. 28, č. 8 (2024), s. 2531-2546. ISSN 1432-8488. E-ISSN 1433-0768
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: Zinc oxide * Mott-Schottky analysis * Kelvin probe * photoelectrochemistry, * spray pyrolysis * reactive magnetron sputtering
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.6, rok: 2024 ; AIS: 0.371, rok: 2024
Způsob publikování: Open access
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0355822

0600482 - FZÚ 2026 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Písaříková, Aneta - Krýsová, Hana - Kapran, Anna - Písařík, Petr - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Hippler, Rainer - Hubička, Zdeněk
Semiconductor WO₃ thin films deposited by pulsed reactive magnetron sputtering.
Materials Science in Semiconductor Processing. Roč. 186, Feb (2025), č. článku 109034. ISSN 1369-8001. E-ISSN 1873-4081
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EH22_008/0004596
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * mid-frequency pulsed magnetron sputtering * photocurrent * plasma diagnostics * RF probe * semiconductor films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4.6, rok: 2024 ; AIS: 0.586, rok: 2024
Způsob publikování: Open access
Hubička, Zdeněk
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0357803