Nápověda

Hrubantová Písaříková Aneta

Publikace ASEP

Další varianty jména: Hrubantová, Aneta; Písaříková, Aneta
Označit vše / Zobrazit všechny roky / Zrušit označení

Označit vše / Zobrazit vše / Zrušit označení

Nalezeno záznamů: 12

0598168 - FZÚ 2025 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Cadatal-Raduban, M. - Olejníček, Jiří - Hibino, K. - Maruyama, Y. - Písaříková, Aneta - Shinohara, K. - Asaka, T. - Lebedová Volfová, Lenka - Kohout, Michal - Zhang, J. - Akabe, Y. - Nakajima, M. - Harrison, J.A. - Hippler, Rainer - Sarukura, N. - Ono, S. - Hubička, Zdeněk - Yamanoi, K.
Ultrafast UV luminescence of ZnO films: Sub-30 ps decay time with suppressed visible component.
Advanced Optical Materials. Roč. 12, č. 21 (2024), č. článku 2400377. ISSN 2195-1071. E-ISSN 2195-1071
AV ČR(CZ) JSPS-23-07
Bilaterální spolupráce
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: electron cyclotron wave resonance * medium-frequency range magnetron sputtering * thin film * UV * Zinc oxide
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 7.2, rok: 2024 ; AIS: 1.646, rok: 2024
Způsob publikování: Open access
Olejníček, Jiří
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0355906

0618596 - FZÚ 2026 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Hibino, K. - Olejníček, Jiří - Yamanoi, K. - Ponseca jr., C.S. - Shuaib, A. - Maruyama, Y. - Písaříková, Aneta - Kohout, Michal - Čada, Martin - Kapran, Anna - Akabe, Y. - Sarukura, N. - Hubička, Zdeněk - Ono, S. - Cadatal-Raduban, M.
Impact of electron cyclotron wave resonance plasma on defect reduction in ZnO thin films.
Scientific Reports. Roč. 15, č. 1 (2025), č. článku 5555. ISSN 2045-2322. E-ISSN 2045-2322
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EH22_008/0004596
AV ČR(CZ) JSPS-23-07
Bilaterální spolupráce
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: vacuum ultraviolet * photoconductive detector * Zinc oxide * thin film * medium-frequency range magnetron sputtering * electron cyclotron wave resonance
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 3.9, rok: 2024 ; AIS: 1.029, rok: 2024
Způsob publikování: Open access
Olejníček, Jiří
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0365866

0566773 - FZÚ 2023 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hrubantová, Aneta - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Čada, Martin - Gedeon, O. - Jiříček, Petr - Houdková, Jana - Olejníček, Jiří - Nepomniashchaia, Natalia - Helm, C.A. - Hubička, Zdeněk
Copper tungsten oxide (CuxWOy) thin films for optical and photoelectrochemical applications deposited by reactive high power impulse magnetron co-sputtering.
Journal of Applied Physics. Roč. 132, č. 21 (2022), č. článku 215301. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * sputtering * photoelectrochemical activity * FTO glass * film properties
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 3.2, rok: 2022 ; AIS: 0.618, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Hippler, Rainer
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0338068

0562485 - FZÚ 2023 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hrubantová, Aneta - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Nepomniashchaia, Natalia - Helm, C.A. - Hubička, Zdeněk
Deposition of tungsten oxide films by reactive magnetron sputtering on different substrates.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 40, č. 6 (2022), č. článku 063402. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: reactive sputtering * plasma * thin films * semiconductor * XRD
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 2.9, rok: 2022 ; AIS: 0.506, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1116/6.0002012
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0335052

0579525 - FZÚ 2024 RIV DE eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Chmelíčková, Hana - Havelková, Martina - Hrubantová Písaříková, Aneta - Jílek, Vlastimil - Václavek, Lukáš
Parameters optimization of Ti6Al4V alloy welding by pulsed Nd:YAG laser.
Lasers in Manufacturing Conference 2023 - Proceedings. Mnichov: WLT, 2023, č. článku 149..
[Lasers in Manufacturing Conference (LiM 2023). Online (DE), 26.06.2023-29.06.2023]
Grant CEP: GA MŠMT LM2023032
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: laser welding * Ti6Al4V * FEM model * nanoindentation * XRD analysis
Obor OECD: Materials engineering
Chmelíčková, Hana
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0348479

0561958 - FZÚ 2023 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Jílek, V. - Václavek, Lukáš - Hrubantová, Aneta - Chmelíčková, H.
Laserové svařování titanu.
[Titanium laser welding.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 67, č. 2 (2022), s. 38-45. ISSN 0447-6441
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: laser welding * titanium * titanium alloys * microstructure * microhardness
Obor OECD: Materials engineering
Způsob publikování: Omezený přístup
https://jmo.fzu.cz/sites/jmo.fzu.cz/files/oldweb/2022/2022-02/jmo_22_02_obsah.pdf
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0334387

0598059 - FZÚ 2025 RIV CH eng J - Článek v odborném periodiku
Kapran, Anna - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Olejníček, Jiří - Volfová, Lenka - Písaříková, Aneta - Nepomniashchaia, Natalia - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Crystalline structure and optical properties of cobalt nickel oxide thin films deposited with a pulsed hollow-cathode discharge in an Ar+O2 gas mixture.
Coatings. Roč. 14, č. 3 (2024), č. článku 319. ISSN 2079-6412. E-ISSN 2079-6412
Grant CEP: GA TA ČR(CZ) FW06010462
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow-cathode discharge * mixed cobalt nickel oxide film * refractive index * absorption coefficient * optical bandgap
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.8, rok: 2024 ; AIS: 0.433, rok: 2024
Způsob publikování: Open access
Hippler, Rainer
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0355829

0573847 - FZÚ 2024 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Kapran, Anna - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Olejníček, Jiří - Písaříková, Aneta - Čada, Martin - Hubička, Zdeněk
Characteristics of a pulsed hollow cathode discharge operated in an Ar+O2 gas mixture and deposition of copper nickel oxide thin films.
Vacuum. Roč. 215, Sept. (2023), č. článku 112272. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: hollow cathode discharg * plasma diagnostics * mixed CuNiO thin film * film diagnostics * photoelectrochemical activity
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 3.8, rok: 2023 ; AIS: 0.489, rok: 2023
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2023.112272
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0344198

0586227 - FZÚ 2025 RIV DE eng J - Článek v odborném periodiku
Krýsová, Hana - Mansfeldová, V. - Tarabková, H. - Písaříková, Aneta - Hubička, Zdeněk - Kavan, L.
High-quality dense ZnO thin films: work function and photo/electrochemical properties.
Journal of Solid State Electrochemistry. Roč. 28, č. 8 (2024), s. 2531-2546. ISSN 1432-8488. E-ISSN 1433-0768
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: Zinc oxide * Mott-Schottky analysis * Kelvin probe * photoelectrochemistry, * spray pyrolysis * reactive magnetron sputtering
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 2.6, rok: 2024 ; AIS: 0.371, rok: 2024
Způsob publikování: Open access
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0355822

0555890 - FZÚ 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Hrubantová, Aneta - Volfová, Lenka - Dvořáková, Michaela - Kohout, Michal - Tvarog, Drahoslav - Gedeon, O. - Wulff, H. - Hippler, Rainer - Hubička, Zdeněk
WO3 and WO3-x thin films prepared by DC hollow cathode discharge.
Vacuum. Roč. 195, Jan (2022), č. článku 110679. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S; GA MPO FV20580
OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: tungsten oxide * WO3 * hollow cathode discharge * sputtering * thin films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4, rok: 2022 ; AIS: 0.491, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110679

Olejníček, Jiří Hubička, Zdeněk
Trvalý odkaz: http://hdl.handle.net/11104/0330352

0577303 - FZÚ 2024 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Písaříková, Aneta - Olejníček, Jiří - Venkrbcová, Ivana - Nožka, L. - Cichoň, Stanislav - Azinfar, A. - Hippler, Rainer - Helm, C.A. - Mašláň, M. - Machala, L. - Hubička, Zdeněk
CuFeO2 prepared by electron cyclotron wave resonance-assisted reactive HiPIMS with two magnetrons and radio frequency magnetron sputtering.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 41, č. 6 (2023), č. článku 063005. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab II - 90251
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ECWR * magnetron sputtering * RF
Obor OECD: Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Impakt faktor: 2.4, rok: 2023 ; AIS: 0.525, rok: 2023
Způsob publikování: Open access
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0346510

0600482 - FZÚ 2026 RIV NL eng J - Článek v odborném periodiku
Písaříková, Aneta - Krýsová, Hana - Kapran, Anna - Písařík, Petr - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Hippler, Rainer - Hubička, Zdeněk
Semiconductor WO3 thin films deposited by pulsed reactive magnetron sputtering.
Materials Science in Semiconductor Processing. Roč. 186, Feb (2025), č. článku 109034. ISSN 1369-8001. E-ISSN 1873-4081
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EH22_008/0004596
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * mid-frequency pulsed magnetron sputtering * photocurrent * plasma diagnostics * RF probe * semiconductor films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4.6, rok: 2024 ; AIS: 0.586, rok: 2024
Způsob publikování: Open access
Hubička, Zdeněk
Trvalý odkaz: https://hdl.handle.net/11104/0357803