Publikace ASEP
0566773 - FZÚ 2023 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hrubantová, Aneta - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Čada, Martin - Gedeon, O. - Jiříček, Petr - Houdková, Jana - Olejníček, Jiří - Nepomniashchaia, Natalia - Helm, C.A. - Hubička, Zdeněk
Copper tungsten oxide (CuxWOy) thin films for optical and photoelectrochemical applications deposited by reactive high power impulse magnetron co-sputtering.
Journal of Applied Physics. Roč. 132, č. 21 (2022), č. článku 215301. ISSN 0021-8979. E-ISSN 1089-7550
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Výzkumná infrastruktura: CzechNanoLab - 90110
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: HiPIMS * sputtering * photoelectrochemical activity * FTO glass * film properties
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 3.2, rok: 2022 ; AIS: 0.618, rok: 2022
Způsob publikování: Open access
Hippler, Rainer
Trvalý odkaz:
https://hdl.handle.net/11104/0338068
0562485 - FZÚ 2023 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Hrubantová, Aneta - Hippler, Rainer - Wulff, H. - Čada, Martin - Olejníček, Jiří - Nepomniashchaia, Natalia - Helm, C.A. - Hubička, Zdeněk
Deposition of tungsten oxide films by reactive magnetron sputtering on different substrates.
Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films. Roč. 40, č. 6 (2022), č. článku 063402. ISSN 0734-2101. E-ISSN 1520-8559
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S
OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: reactive sputtering * plasma * thin films * semiconductor * XRD
Obor OECD: Coating and films
Impakt faktor: 2.9, rok: 2022 ; AIS: 0.506, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1116/6.0002012
Trvalý odkaz:
https://hdl.handle.net/11104/0335052
0579525 - FZÚ 2024 RIV DE eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Chmelíčková, Hana - Havelková, Martina - Hrubantová Písaříková, Aneta - Jílek, Vlastimil - Václavek, Lukáš
Parameters optimization of Ti6Al4V alloy welding by pulsed Nd:YAG laser.
Lasers in Manufacturing Conference 2023 - Proceedings. Mnichov: WLT, 2023, č. článku 149..
[Lasers in Manufacturing Conference (LiM 2023). Online (DE), 26.06.2023-29.06.2023]
Grant CEP: GA MŠMT LM2023032
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: laser welding * Ti6Al4V * FEM model * nanoindentation * XRD analysis
Obor OECD: Materials engineering
Chmelíčková, Hana
Trvalý odkaz:
https://hdl.handle.net/11104/0348479
0561958 - FZÚ 2023 RIV CZ cze J - Článek v odborném periodiku
Jílek, V. - Václavek, Lukáš - Hrubantová, Aneta - Chmelíčková, H.
Laserové svařování titanu.
[Titanium laser welding.]
Jemná mechanika a optika. Roč. 67, č. 2 (2022), s. 38-45. ISSN 0447-6441
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: laser welding * titanium * titanium alloys * microstructure * microhardness
Obor OECD: Materials engineering
Způsob publikování: Omezený přístup
https://jmo.fzu.cz/sites/jmo.fzu.cz/files/oldweb/2022/2022-02/jmo_22_02_obsah.pdf
Trvalý odkaz:
https://hdl.handle.net/11104/0334387
0555890 - FZÚ 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Hrubantová, Aneta - Volfová, Lenka - Dvořáková, Michaela - Kohout, Michal - Tvarog, Drahoslav - Gedeon, O. - Wulff, H. - Hippler, Rainer - Hubička, Zdeněk
WO3 and WO3-x thin films prepared by DC hollow cathode discharge.
Vacuum. Roč. 195, Jan (2022), č. článku 110679. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S; GA MPO FV20580
OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: tungsten oxide * WO3 * hollow cathode discharge * sputtering * thin films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4, rok: 2022 ; AIS: 0.491, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110679
Olejníček, Jiří Hubička, Zdeněk
Trvalý odkaz:
http://hdl.handle.net/11104/0330352