0555890 - FZÚ 2023 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Olejníček, Jiří - Hrubantová, Aneta - Volfová, Lenka - Dvořáková, Michaela - Kohout, Michal - Tvarog, Drahoslav - Gedeon, O. - Wulff, H. - Hippler, Rainer - Hubička, Zdeněk
WO₃ and WO_3-x thin films prepared by DC hollow cathode discharge.
Vacuum. Roč. 195, Jan (2022), č. článku 110679. ISSN 0042-207X. E-ISSN 1879-2715
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) EF16_019/0000760; GA ČR(CZ) GA21-04477S; GA MPO FV20580
OP VVV - SOLID21(XE) CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: tungsten oxide * WO₃ * hollow cathode discharge * sputtering * thin films
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
Impakt faktor: 4, rok: 2022 ; AIS: 0.491, rok: 2022
Způsob publikování: Omezený přístup
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2021.110679

Olejníček, Jiří Hubička, Zdeněk
Trvalý odkaz: http://hdl.handle.net/11104/0330352